Riassunto: DNP accelera lo sviluppo del processo di produzione di fotomaschere per litografia EUV adatta per dispositivi da 2 nm

 
 
27-3-2024
Scienza e Tecnologia - Inoltre DNP opererà da appaltatore fornendo la tecnologia appena sviluppata a Rapidus Corporation (Rapidus), che ha sede a Tokyo. Rapidus sta partecipando al Progetto di Ricerca e Sviluppo delle Infrastrutture potenziate per Sistemi ... ...
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